X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)

L'XPS est un outil très puissant, utilisé pour l'Analyse de la Chimie de Surface (composition élémentaire quantitative et environnement chimique sur les 2 à 10  premiers nanomètres de la surface), pour l'Imagerie Chimique (résolution latérale 3µm), et pour le Profilage Chimique élémentaire quantitatif (jusqu'à 1µm en profondeur, résolution en z 3 nm).
 
Echantillons analysés : tous les matériaux compatibles avec l'UHV
Isolants (compensation de charge), polymères, produits organiques, échantillons biologiques, poudres, verres, semiconducteurs, métaux, alliages
 

KRATOS - AXIS NOVA (Micro XPS)

  • Résolution énergétique : 0,48 eV (FWHM) sur Ag3d5/2 et 0.8 eV (FWHM) sur O-C=O (PET) avec source AlKα monochromatisée
  • Reproductibilité meilleure que 3 %
  • Résolution angulaire de 1°
  • Profondeur d'analyse de 2 à 8 nm.
  • Résolution spatiale de 3 µm en mode imagerie; 10 µm en mode microanalyse
  • Canon Ar+ (500 eV ... 5 keV) pour décapage et profil de distribution en profondeur
  • Neutralisation de charges pour l'analyse des isolants (lentille d'immersion magnétique)
  • Seuil de détection : 0.3 % atomique, en fonction des éléments.
  • Analyse sous ultra-vide (de l'ordre de 10-8 Pa, 10-10 torr).
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