ION TOF - TOF 5 

Le Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (ToF SIMS) est une technique puissante et très sensible, utilisée pour l'Analyse de la Chimie de Surface (information moléculaire ou élémentaire sur la première monocouche), l'Imagerie Chimique moléculaire ou élémentaire de surface (résolution latérale 0,1 µm), et le Profilage Chimique élémentaire et moléculaire (jusqu'à 10-15 µm de profondeur, résolution nanométrique en z)

Echantillons analysés : tous les matériaux compatibles avec l'UHV
Isolants (compensation de charge), polymères, produits organiques, échantillons biologiques, poudres, verres, semiconducteurs, métaux, alliages
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  • Haute résolution en masse (< 10.000)

  • Haute précision de masse (< 10 ppm)
  • Détection des hautes masses (< 15000 D)
  • Profondeur d'analyse de 0,2 - 0,5 nm (1 monocouche)
  • Haute résolution latérale (jusqu'à 0,1 μm)
  • Sources d'ions multiples : Bi et clusters (Bi3, Bi5) pour l'analyse ; O2, Cs et GCIS pour l'abrasion
  • Doigt Froid (pour l'analyse en surfaces des composés volatiles ou pour le profilage chimique de matériaux contenant des éléents mobiles comme le Lithium)
  • Dimensions maximales des échantillons : L x l : 60 x 60 mm², épaisseur 10 mm, poids < 100 g