WEBINAR en replay - Applications Plasma FIB SEM (Xe)

TESCAN est un pionnier de la technologie FIB plasma Xenon, qui permet l’usinage par faisceaux d’ions à grande échelle sur des dimensions de sections transversales (cross-section) allant jusqu’à 1mm, ainsi que les opérations de routine pour la préparation des échantillons.
La FIB plasma Xe a l’avantage de préserver la structure de l'échantillon lors de la gravure, et la nature inerte des ions xénon permet une préparation sans contamination. Ces arguments font du FIB plasma Xe le candidat idéal pour l'étude des matériaux sensibles comme l'aluminium ou Batteries Li-ion, sans risque de modification des propriétés microstructurales ou mécaniques.
Le FIB Plasma couplé aux accessoires de microanalyse intégrés tels que l’EDS et l’EBSD, les techniques RAMAN et TOFSIMS, sera l’outil fondamental pour caractériser vos matériaux à différentes échelles sous différentes approches.


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